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直流濺射等離子實驗裝置
型號：YQ-DHPS-1 |
貨號：ZH5502 |
產(chǎn)品簡介
裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶臺、真空抽氣系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、進氣系統(tǒng)等部分組成。
本實驗采用同軸二，濺射結(jié)構(gòu)，在真空室內(nèi)以沉積材料為陰，，加工樣品為陽，，工作期間兩，間加直流電壓引起放電，放電氣體中的離子被加速轟擊靶面，濺射粒子沉積在基片表面成膜。
可以完成光學薄膜材料的制備及其光學特性的測量、金屬薄膜的制備等實驗。通過這些實驗可讓實驗者理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的，方法。
主要，特點：
1 濺射靶臺和濺射靶距離可調(diào)節(jié)，研究在不同距離時對薄膜濺射的影響；
2 濺射基片可進行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響；
3 濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié)，研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響；
4 反應腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象；
5 工作氣體可調(diào)節(jié)%換，并可多路氣體混合工作。
主要，參數(shù)及性能：
1、濺射腔體外形尺寸：φ140mm×150mm；
2、濺射靶臺：φ70mm×20mm；
3、濺射靶臺和濺射靶可調(diào)距離：10~50mm；
4、基片加熱溫度可控范圍：室溫~80℃；
5、濺射氣壓可調(diào)范圍：10Pa~200Pa;
6、濺射電壓：0V~1000V連續(xù)可調(diào)；
7、濺射電流：0~200mA可測；
8、氣源流量可控范圍：6~60ml/min；25~250ml/min；
9、供電電源：AC220V，50HZ；
10、整機功率：1.5KW。
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